電子超純水
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UPW-HiDB超純水拋光除硼系統

應用對象:集成電路與硅片產業對硼要求極高的超純水處理系統

關鍵技術:除硼樹脂、拋光樹脂、除硼陰床

技術優勢:

1)硼選擇樹脂含有多羥基官能團,對于硼酸具有高選擇性;

2)雙層床的設計及后置的TOC-UV解決除硼樹脂TOC溶出的問題;

3)產水B濃度 < 10 ppt,TOC < 2 ppb。


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